Параметры структур КНИ с субмикронными слоями

Наименование параметра Ед. измерения Значение параметра
150 мм 200 мм
Приборный слой кремния
Краевое исключение при измерении параметров мм < 5
Толщина приборного слоя кремния нм
200 - 1000 90 - 1000
Однородность толщины приборного слоя по пластине нм
± 20 ± 12
Тип проводимости Р-тип / Бор
Сопротивление приборного слоя Ом·см По согласованию с заказчиком
Ориентация приборного слоя <100>
Области несращивания диаметром > 0,5 мм шт. 0
Шероховатость поверхности на участке 2х2 мкм нм
< 0,5 < 0,3
Металлические загрязнения Fe , Cu , Cr , Ni , Zn , Na , Ca , K, Al (по каждому элементу) ат./см2 5·1010
Светорассеивающие дефекты размером > 0,2 мкм шт.
< 50 < 65
HF-дефекты шт./см2
< 0,5 < 0,3
Скрытый диэлектрик
Толщина скрытого окисла нм 100 – 2000
Однородность толщины скрытого окисла % < 5
Кремниевая подложка
Тип проводимости Р-тип / Бор
Сопротивление приборного слоя Ом·см По согласованию с заказчиком
Ориентация приборного слоя <100>
Длина базового среза мм
57,5 ± 2,5 notch
Ориентация базового среза <110>
Назад
Напишите нам сообщение