Производство и поставка фотошаблонов
для проекционной и контактной фотолитографии

Изготовление фотошаблонов осуществляется для производства интегральных схем с проектными нормами до 350 нм на базе специального технологического оборудования, обеспечивающего генерацию изображения топологического рисунка интегральной микросхемы на фотошаблонах по заданной управляющей информации, аттестацию фотошаблонов на соответствие проектным данным и техническим требованиям заказчика

Перечень предлагаемых услуг

Проектирование фотошаблонов

• Проведение входного контроля топологии;
• Проектирование фотошаблонов в форматах GDSII, OASIS;
• Проведение выходного контроля топологии фотошаблонов;
• Подготовка управляющих программ для технологического оборудования;
• Автоматизированный контроль дефектности рабочего поля фотошаблона (в том числе протоколирование результатов контроля)

Производство фотошаблонов

• Изготовление промежуточных фотошаблонов СБИС с проектными нормами до 0,35 мкм в масштабе 5:1 и 4:1 для проекционной фотолитографии (ASML, Canon, Nikon);
• Изготовление промежуточных фотошаблонов БИС c микронными проектными нормами в масштабе 5:1 для проекционной литографии (КБТЭМ-ОМО, Планар);
• Изготовление промежуточных фотошаблонов масштаба 10:1 для фотоповторителей (AER);
• Изготовление рабочих фотошаблонов масштаба 1:1 для контактной фотолитографии

Контроль изготовления фотошаблонов

• Измерение линейных размеров и координат, определение однородности линейных размеров;
• Измерения координат элементов фотошаблона и определение точности местоположения элементов фотошаблона;
• Измерения координат элементов комплекта фотошаблонов и определение рассовмещаемости топологических слоев в комплекте;
• Лазерная ретушь дефектов рабочего поля фотошаблона;
• Отмывка и монтаж пелликла (односторонний / двусторонний);
• Отмывка фотошаблона