Параметры структур КНИ с микронными слоями

Наименование параметра Ед. измерения Значение параметра
Толщина приборного слоя мкм 4 – 100
Однородность толщины приборного слоя мкм 150 ± 0,2
Шероховатость поверхности на участке 2х2 мкм нм < 0,5
Толщина скрытого окисла мкм < 2,0
Однородность толщины скрытого окисла % < 5
Полное отклонение толщины структуры КНИ (TTV) мкм < 5
Прогиб мкм < 40
Коробление мкм < 40
Тип проводимости P, N
Ориентация приборного слоя и подложки <100>
Длина базового среза мм 57,5 ± 2,5
Назад