ПРОЕКТИРОВАНИЕ И ИЗГОТОВЛЕНИЕ ФОТОШАБЛОНОВ
для проекционной и контактной фотолитографии

Изготовление фотошаблонов осуществляется для производства интегральных схем с проектными нормами до 350 нм на базе специального технологического оборудования, обеспечивающего генерацию изображения топологического рисунка интегральной микросхемы на фотошаблонах по заданной управляющей информации, аттестацию фотошаблонов на соответствие проектным данным и техническим требованиям заказчика.

Тип шаблона

- бинарный

​Материал поддожки ​

​ - синтетический кварц с хромовым маскирующим антиотражающим покрытием
- щелочное стекло с хромовым покрытием ​

Пелликлы
(по согласованию с заказчиком)

- односторонний (для промежуточных шаблонов 6025)
- двухсторонний (для промежуточных шаблонов 5009)

Размер недопустимого дефекта

0,5 мкм

Масштаб

- 10:1 (проекционная фотолитография)
- 5:1 (проекционная фотолитография)
- 4:1 (проекционная фотолитография)
- 1:1 (контактная фотолитография)

Размер шаблонов


- 152х152х6,35 мм (6025)
- 127х127х2,3 мм (5009)


Перечень предлагаемых услуг

ИЗГОТОВЛЕНИЕ ФОТОШАБЛОНОВ

  • Изготовление промежуточных фотошаблонов СБИС с проектными нормами до 0,35 мкм в масштабе 5:1 и 4:1 для проекционной фотолитографии (ASML, Canon, Nikon);
  • Изготовление промежуточных фотошаблонов БИС c микронными проектными нормами в масштабе 5:1 для проекционной литографии (КБТЭМ-ОМО, Планар);
  • Изготовление промежуточных фотошаблонов масштаба 10:1 для фотоповторителей (AER);
  • Изготовление рабочих фотошаблонов масштаба 1:1 для контактной фотолитографии.

РЕМОНТ И АТТЕСТАЦИЯ ФОТОШАБЛОНОВ

  • Измерение линейных размеров и координат;
  • Автоматизированный контроль топологии методом сравнения с проектными данными;
  • Контроль дефектов;
  • Лазерная ретушь дефектов;
  • Замена пелликлов, включая отмывку и переаттестацию.

Вам также может быть интересно: