Пластины «кремний на изоляторе» (КНИ)

   › Производство пластин «Кремний на изоляторе» (КНИ)

 Диаметр пластин – 150 мм, 200 мм

  1. Пластины КНИ с тонкими слоями для субмикронных интегральных схем

     Толщина приборного слоя: 50 — 400 нм
     Толщина скрытого диэлектрика (термический окисел): 100 – 400 нм
     Технология изготовления: сращивание пластин и расщепление посредством ионного скола

  2. Пластины КНИ с толстыми слоями для изготовления МЭМС и силовой электроники

     Толщина приборного слоя: 5 — 100 мкм
     Толщина скрытого диэлектрика – до 1 мкм (термический окисел), до 3 мкм (CVD)
     Технология изготовления: шлифование и полирование донорной пластины

   › Услуги по утонению пластин кремния методом шлифовки

Диаметр пластин 100 мм 150 мм 200 мм
Минимальная толщина пластины после утонения 130 мкм 150 мкм 200 мкм
TTV (отклонение толщины по пластине) < 1,5 мкм < 3,0 мкм
Отклонение толщины (от пластины к пластине) < 3 мкм

   › Услуги по измерению параметров полупроводниковых пластин:

  1. Измерение геометрических параметров пластин (прогиб, коробление, толщина, неплоскостность) методом лазерной интерферометрии

     • диаметр измеряемых пластин: 100 мм, 150 мм и 200 мм
     • точность: 0,1 µм
     • динамический диапазон измерений: 30 µм

  2. Измерение микрошероховатости методом атомно-силовой микроскопии

     • диаметр измеряемых пластин: 100 мм, 150 мм и 200 мм
     • диапазон измерений по оси Z: 7 µм
     • разрешение по оси Z: 0,05 нм
     • диапазон измерений по осям XY: 90 µм
     • разрешение по оси XY: 0,5 нм

  3. Измерение толщин многослойных тонкопленочных структур и оптических характеристик (коэффициентов отражения, преломления и поглощения) полупроводниковых пластин методом спектральной эллипсометрии

     • диаметр измеряемых пластин: 100 мм, 150 мм и 200 мм
     • диапазон длин волн: 265нм — 1700 нм
     • диапазон измеряемых толщин: 1Å — 100 µм
     • предельная точность измерения толщин (1σ): 0,25 Å

  4. Измерение сопротивления полупроводниковых пластин четерехзондовым методом

     • диаметр измеряемых пластин: 100 мм, 150 мм и 200 мм
     • диапазон измерения от 1×10-3 до 8×109 Ом/□
     • относительная погрешность менее 0.2 процента

МВЦ осуществляет гибкую работу с заказчиком:

 - изготовление пластин КНИ с параметрами по требованиям заказчика:
 • толщина и сопротивление приборного слоя,
 • толщина скрытого диэлектрика
 • индивидуальные требования для подложки и донорной пластины
 - минимальная партия пластин от 10 штук
 - оперативное выполнение заказов и услуг

­­­

Адрес электронной почты для получения подробной информации
по указанным продуктам и услугам: MNMineev@mvc-nn.ru

Контактное лицо: Минеев Максим Николаевич – Руководитель подразделения
разработки технологии и изготовления пластин