1990г. – Запуск производства микронных БИС на объемном кремнии;

2002г. – Запуск производства микронных БИС по технологии КМОП КНС;

2005г. – Запуск участка сборки СБИС в металлокерамические корпуса;

2009г. – Создание лаборатории аналитических исследований полупроводниковых материалов;

2011г. – Создание дизайн-центра цифровых, аналоговых СБИС, силовой электроники и МСТ;

2011г. – Создание сертифицированного центра испытаний;

2013г. – Запуск участка изготовления фотошаблонов для субмикронных СБИС;

2013г. – Запуск дизайн-центра МИС СВЧ- и КВЧ-диапазонов;

2015г. – Запуск производства изделий микросистемотехники (МСТ);

2015г. – Запуск участка сборки и измерений МИС СВЧ- и КВЧ-диапазонов, изделий МСТ, многовыводных СБИС в корпус